Micron、1γノードDRAM製造に向け、広島工場にEUV技術導入

　Micron Technologyは、同社の広島工場にEUV(極端紫外線)技術を導入し、1γノードによる次世代DRAM製造を行なうと発表した。1γプロセス技術に対し、日本政府による支援を前提に、今後数年で最大5,000円億円を投資する見込みだとしている。